光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A可配冷卻循環(huán)裝置，主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。

更新時(shí)間：2024-12-01
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品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,食品/農(nóng)產(chǎn)品,化工,制藥/生物制藥,綜合

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A可配冷卻循環(huán)裝置技術(shù)參數(shù)：

型號	CY-GHX-A	CY-GHX-AC	CY-GHX-B	CY-GHX-BC
主體部分	1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。 2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。 3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。 4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。 5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
反應(yīng)部分	1.石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做）。 2.可同時(shí)處理8個(gè)樣品（或定做）。 3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度。		1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。 2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。
	制冷裝置（選配）	制冷裝置（標(biāo)配）	制冷裝置（選配）	制冷裝置（標(biāo)配）
控溫裝置（可選配）	1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W 2.控溫范圍：-5°C到100°C 3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A可配冷卻循環(huán)裝置主要特征：

1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制，可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化

2.進(jìn)口光源控制器，內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器，功率連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)定性高

3. 光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能，操作簡便

4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料，且?guī)в杏^察窗

5.采用內(nèi)照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用

6.配有8（6/12可選）位磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度

8.光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng)，自動(dòng)斷電功能

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口，內(nèi)部設(shè)有2個(gè)專用插座，供燈源和攪拌反應(yīng)器用

光化學(xué)反應(yīng)儀操作說明

1、準(zhǔn)備工作：連接電源。使用該儀器前先把八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)放入主機(jī)箱內(nèi)，石英反應(yīng)管(或反應(yīng)容器)內(nèi)放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈(氙燈)、反應(yīng)器以及冷卻水循環(huán)裝置是否連接好。(如下圖連接)

　　2、反應(yīng)暗箱內(nèi)設(shè)有八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)和燈的電源接口，請按指示連接。

　　3、調(diào)節(jié)控制器上面的光源選擇，使所使用光源與控制器上面的保持一致(按光源種類和功率大小區(qū)分)

　　4、依次打開控制器上面的風(fēng)扇開關(guān)、反應(yīng)器和燈開關(guān)，風(fēng)扇開始工作(反應(yīng)暗箱內(nèi)空氣開始外排。

　　5、打開八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)上面的電源開關(guān)，按需調(diào)節(jié)攪拌速度。

　　6、光源功率調(diào)節(jié)位于控制器中心位置，可按需調(diào)節(jié)光源功率大小。

　　7、控制器右上方設(shè)有微電腦定時(shí)器，可按需設(shè)置工作時(shí)間。

　　注：無論使用汞燈或氙燈做實(shí)驗(yàn)時(shí)，將燈源放置在石英冷阱內(nèi)使用(建議同時(shí)配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用，避免溫度過高造成儀器損壞)。